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半导体业聚首商谈450mm晶圆标准
来源:  作者:本站
  国际半导体设备和材料协会(SEMI)将于11月10-13日召开会议,联合业界厂商确定下一代450mm硅晶圆的标准。

  在经过几轮争议之后,芯片制造协会Sematech和集成电路产业已经基本确定了所谓的“机械标准”,将450mm硅晶圆的厚度设定在925±25微米,也就是略大于0.9毫米。相比之下,目前的300mm晶圆厚度只有775微米。

  下个月,半导体业界将争取指定450mm晶圆的“测试晶圆厚度”标准。

  另外Sematech宣布将于2010年前推出32nm工艺的450mm晶圆的演示试用设备,2012年推出试水线并升级到22nm工艺,但没有透露具体何时投产。根据此前消息,Intel、台积电、三星计划在2012年前后完成450mm晶圆厂原型。


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